Mit X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) lassen sich die obersten 5–10 Nanometer einer Probe chemisch präzise analysieren. So können nahezu alle Elemente – mit Ausnahme von Wasserstoff und Helium – sowie ihre chemischen Bindungszustände nachgewiesen werden. Selbst kleinste Spuren von Rückständen (ab ca. 0.1 at% oder 1 ng/cm²) werden zuverlässig erkannt.
Anlieferung des neuen PHI Genesis XPS-Systems ins neue Laborgebäude
Wo bringt XPS den entscheidenden Vorteil?
- Sauberkeitsanalysen: Nachweis von Produktions- und Reinigungsrückständen, z. B. Zink aus Schmiermitteln oder Phosphate aus Reinigungsmitteln.
- Flecken- und Rückstandsanalysen: Zusammensetzung gezielt bestimmen und mit angrenzendem Material vergleichen.
- Oberflächenmodifikationen: Chemische Funktionalisierungen untersuchen und überprüfen.
Einblick in das neue PHI Genesis Spectrometer der RMS Foundation
Was ist neu?
- Höchste Auflösung: Strukturen ab 5 µm können gezielt analysiert werden.
- SXI-Bildmodus: Präzise Lokalisierung kleinster Messbereiche – ähnlich wie im Rasterelektronenmikroskop – und direkte Analyse.
SXI-Bild zur Auswahl und Positionierung der Analysebereiche
Was bleibt gleich?
Wir bleiben das einzige Labor der Schweiz, das nach ISO/IEC 17025 für XPS-Analysen akkreditiert ist – und bieten Ihnen weiterhin unser bewährtes Leistungsspektrum :
- Sauberkeitsanalysen
- Flecken- und Rückstandsanalysen
- Überprüfung chemischer Modifikationen
- Spezialanalysen, unter anderem:
- Winkelaufgelöste Messungen: Durch Kippen der Probe wird die Informationstiefe weiter reduziert, um Tiefenverteilungen der Elemente in der obersten Schicht zu untersuchen.
- Tiefenprofile: Mittels Sputtern wird die Probe schrittweise abgetragen, um die chemische Zusammensetzung in der Tiefe zu analysieren.
- Imaging-XPS: Chemisches Mapping der Oberfläche mit lateraler Auflösung bis zu 5 µm.
Anwendungsbeispiel
Anwendungsbeispiel aus der Medizintechnik: XPS-Spektrum einer abgeplatzten Schicht einer grün anodisierten Titanprobe. Auffällig ist der zusätzliche Fluorpeak. Aufgrund der Bindungsenergie kann ausgesagt werden, dass er von einem Fluorid stammt – und nicht von polyfluorierten Alkylsubstanzen (PFAS). Titanfluorid an der Grenzfläche führte folglich zum Versagen der Schichthaftung. Fluor stammt ursprünglich aus der HF-Beize, die in einem vorherigen Prozessschritt während der Probenherstellung verwendet wurde.
Unser Versprechen: Mit der erweiterten XPS-Analytik erhalten Sie noch präzisere Antworten auf Ihre Fragestellungen – vom Prozessrückstand bis zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung.
Wir freuen uns, auch Sie mit unserer Expertise zu unterstützen.
Kontaktieren Sie uns – wir beraten Sie gerne!
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| Dr. Roman Heuberger Leiter Materialprüfung und Beratung Phone +41 32 644 20 22 |
Dr. Moritz Liesegang Teamleiter Werkstoffstruktur Phone +41 32 644 20 03 |
