IL-48: Willkommen in unserem neuen Labor – mit neuester XPS-Technologie!

Mit X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) lassen sich die obersten 5–10 Nanometer einer Probe chemisch präzise analysieren. So können nahezu alle Elemente – mit Ausnahme von Wasserstoff und Helium – sowie ihre chemischen Bindungszustände nachgewiesen werden. Selbst kleinste Spuren von Rückständen (ab ca. 0.1 at% oder 1 ng/cm²) werden zuverlässig erkannt. 

Anlieferung des neuen PHI Genesis XPS-Systems ins neue Laborgebäude 

Wo bringt XPS den entscheidenden Vorteil?

• Sauberkeitsanalysen: Nachweis von Produktions- und Reinigungsrückständen, z. B. Zink aus Schmiermitteln oder Phosphate aus Reinigungsmitteln.
• Flecken- und Rückstandsanalysen: Zusammensetzung gezielt bestimmen und mit angrenzendem Material vergleichen.
• Oberflächenmodifikationen: Chemische Funktionalisierungen untersuchen und überprüfen.

Einblick in das neue PHI Genesis Spectrometer der RMS Foundation

Was ist neu?

• Höchste Auflösung: Strukturen ab 5 µm können gezielt analysiert werden.
• SXI-Bildmodus: Präzise Lokalisierung kleinster Messbereiche – ähnlich wie im Rasterelektronenmikroskop – und direkte Analyse.

SXI-Bild zur Auswahl und Positionierung der Analysebereiche 

Was bleibt gleich?

Wir bleiben das einzige Labor der Schweiz, das nach ISO/IEC 17025 für XPS-Analysen akkreditiert ist – und bieten Ihnen weiterhin unser bewährtes Leistungsspektrum :

• Sauberkeitsanalysen
• Flecken- und Rückstandsanalysen
• Überprüfung chemischer Modifikationen
• Spezialanalysen, unter anderem:
  • Winkelaufgelöste Messungen: Durch Kippen der Probe wird die Informationstiefe weiter reduziert, um Tiefenverteilungen der Elemente in der obersten Schicht zu untersuchen.
  • Tiefenprofile: Mittels Sputtern wird die Probe schrittweise abgetragen, um die chemische Zusammensetzung in der Tiefe zu analysieren.
  • Imaging-XPS: Chemisches Mapping der Oberfläche mit lateraler Auflösung bis zu 5 µm.
    
    

Anwendungsbeispiel

Anwendungsbeispiel aus der Medizintechnik: XPS-Spektrum einer abgeplatzten Schicht einer grün anodisierten Titanprobe. Auffällig ist der zusätzliche Fluorpeak. Aufgrund der Bindungsenergie kann ausgesagt werden, dass er von einem Fluorid stammt – und nicht von polyfluorierten Alkylsubstanzen (PFAS). Titanfluorid an der Grenzfläche führte folglich zum Versagen der Schichthaftung. Fluor stammt ursprünglich aus der HF-Beize, die in einem vorherigen Prozessschritt während der Probenherstellung verwendet wurde. 

Unser Versprechen: Mit der erweiterten XPS-Analytik erhalten Sie noch präzisere Antworten auf Ihre Fragestellungen – vom Prozessrückstand bis zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung.

Wir freuen uns, auch Sie mit unserer Expertise zu unterstützen.
Kontaktieren Sie uns – wir beraten Sie gerne!