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Röntgenstrahl-Photoelektronenspektroskopie (XPS)
Die Röntgenstrahl-Photoelektronenspektroskopie (XPS) dient zur qualitativen und quantitativen Oberflächenanalyse von metallischen und nichtmetallischen Festkörpern. Zerstörungsfrei wird die chemische Zusammensetzung an der Oberfläche (oberste 5-10 nm) analysiert, wobei alle Elemente ausser Wasserstoff und Helium detektiert werden. Zudem können auch die Oxidationszustände dieser Elemente bestimmt werden.
Vorwiegend wird die XPS-Analyse zur Kontrolle von Oberflächenbehandlungen, zur Charakterisierung von (fleckigen) Verunreinigungen an der Oberfläche oder zur Sauberkeitsanalyse von Implantaten verwendet.
Gerät: Kratos Axis NOVA
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