Die Röntgenstrahl-Photoelektronenspektroskopie (XPS) dient zur qualitativen und quantitativen Oberflächenanalyse von metallischen und nichtmetallischen Festkörpern. Zerstörungsfrei wird die chemische Zusammensetzung an der Oberfläche (oberste 5-10 nm) analysiert, wobei alle Elemente ausser Wasserstoff und Helium detektiert werden. Zudem können auch die Oxidationszustände dieser Elemente bestimmt werden.
Vorwiegend wird die XPS-Analyse zur Kontrolle von Oberflächenbehandlungen, zur Charakterisierung von (fleckigen) Verunreinigungen an der Oberfläche oder zur Sauberkeitsanalyse von Implantaten verwendet.
Haben wir Ihr Interesse geweckt? Lesen Sie mehr über XPS auf unserem Flyer
Gerät: Kratos Axis NOVA
Kontaktperson: Roman Heuberger, Roman.Heuberger(at)rms-foundation.ch, +41 (0)32 644 14 74
Lesen Sie mehr zum Thema Oberflächenanalytik in unserem Newsletter Nr. 4
Die Bestimmung des Kontaktwinkels auf einer Probe erlaubt eine schnelle Charakterisierung der Oberfläche: Ist die Oberfläche hydrophob oder hydrophil? Ist die Probe verunreinigt? Hat eine Beschichtung funktioniert? Anhand von zwei verschiedenen Testflüssigkeiten kann auch die effektive Oberflächenenergie berechnet werden.
Gerät: Surftens universal von OEG GmbH (Frankfurt, DE)
Kontaktperson: Roman Heuberger, Roman.Heuberger(at)rms-foundation.ch, +41 (0)32 644 14 74
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